2018年全球光刻膠行業(yè)市場競爭格局與發(fā)展前景分析 呈寡頭壟斷格局【組圖】
全球光刻膠市場集中度高
光刻膠又稱光致抗蝕劑,是由光引發(fā)劑(包括光增感劑、光致產(chǎn)酸劑)、光刻膠樹脂、單體(活性稀釋劑)、溶劑和其他助劑組成的對光敏感的混合液體,利用光化學(xué)反應(yīng)經(jīng)曝光、顯影、刻蝕等光刻工藝將所需要的微細(xì)圖形從掩模版轉(zhuǎn)移到待加工基片上的圖形轉(zhuǎn)移介質(zhì)。
光刻膠被廣泛應(yīng)用于光電信息產(chǎn)業(yè)的微細(xì)圖形線路的加工制作,是微細(xì)加工技術(shù)的關(guān)鍵性材料。按應(yīng)用領(lǐng)域分類,光刻膠可分為PCB光刻膠、LCD光刻膠、半導(dǎo)體光刻膠及其他。2017年,全球光刻膠下游應(yīng)用較為均衡,PCB光刻膠、LCD光刻膠、半導(dǎo)體光刻膠及其他占比基本都在25%左右。
從以上概念及應(yīng)用可知,光刻膠用于微小圖形的加工,生產(chǎn)工藝復(fù)雜,技術(shù)壁壘較高。其主要技術(shù)參數(shù)包括分辨率、對比度、敏感度,此外還有粘滯性黏度、粘附性等。其中分辨率描述形成的關(guān)鍵尺寸;對比度描述光刻膠從曝光區(qū)到非曝光區(qū)的陡度;敏感度為光刻膠上產(chǎn)生一個良好的圖形所需一定波長光的最小能量值。諸多技術(shù)參數(shù)限制構(gòu)成了光刻膠的技術(shù)壁壘。
同時,光刻膠質(zhì)量直接影響下游產(chǎn)品的質(zhì)量,下游企業(yè)對光刻膠供貨企業(yè)的質(zhì)量及供貨能力非常重視,通常采取認(rèn)證采購的商業(yè)模式。伴隨著高的采購成本與認(rèn)證成本,光刻膠生產(chǎn)廠家與下游企業(yè)通常會形成較為穩(wěn)定的合作,這對新供應(yīng)商涉足光刻膠行業(yè)設(shè)置了準(zhǔn)入壁壘。
由于極高的行業(yè)壁壘,全球光刻膠行業(yè)呈現(xiàn)寡頭壟斷格局,長年被日本、歐美專業(yè)公司壟斷。目前前五大廠商占據(jù)了全球光刻膠市場87%的份額,行業(yè)集中度較高。其中,日本JSR、東京應(yīng)化、日本信越與富士電子材料市占率加和達(dá)到72%。
細(xì)分領(lǐng)域來看,在PCB光刻膠市場,PCB干膜光刻膠廠家主要有7家,分別為臺灣長興化學(xué)、臺灣長春化工、日本旭化成、日本日立化成、美國杜邦、韓國KOLON、意大利莫頓公司,其中長興化學(xué)、旭化成、日立化成三家所占市場份額已達(dá)80%以上;濕膜光刻膠主要生產(chǎn)廠家有臺灣長春化工、日本三井化學(xué)、飛凱材料等;光成像阻焊油墨的主要生產(chǎn)商有日本太陽油墨、TAMURA制作所、歐洲HUNGTSUMAN、中國臺灣永勝泰、無錫廣信油墨(臺資)等公司,共占據(jù)市場80%以上份額,其中日本太陽油墨一家獨(dú)大,幾乎占據(jù)全球60%份額。
在LCD光刻膠市場,TFT正性光刻膠主要生產(chǎn)廠家有日本東京應(yīng)化(TOK)、美國羅門哈斯、韓國AZ和DONGJINSEMICHEM、臺灣永光化學(xué);彩色光刻膠市場主要由日本、韓國廠商壟斷,主要生產(chǎn)商有JSR、LG化學(xué)、CHEIL、TOYOINK、住友化學(xué)、奇美、三菱化學(xué),七家公司占全球產(chǎn)量逾90%;黑色光刻膠的集中度更高,主要生產(chǎn)商有TOK、CHEIL、新日鐵化學(xué)、三菱化學(xué)、ADEKA,占全球產(chǎn)量亦超過90%。
在半導(dǎo)體光刻膠市場,全球半導(dǎo)體行業(yè)中涉及光刻膠的核心技術(shù)主要被日本和美國企業(yè)所壟斷,包括日本JSR、信越化學(xué)、TOK、住友化學(xué),美國SEMATECH、IBM,韓國東進(jìn)化學(xué)等,合占市場份額達(dá)到95%。
市場規(guī)模將超百億美元
光刻膠自進(jìn)入新世紀(jì)以來經(jīng)歷了迅速的發(fā)展歷程,全球光刻膠市場規(guī)模從2010年55.5億美元增長至2015年73.6億美元,復(fù)合增長率為5.81%;據(jù)IHS預(yù)測,2016-2022年光刻膠消費(fèi)量以年均5%的速度增長,至2022年全球光刻膠市場規(guī)模可超過100億美元,前景依舊廣闊。
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